半导体光刻清洗台

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发布日期2010-9-6 11:50:10
详细说明1.光刻清洗台是光刻清洗台，适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。
2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统，排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色，整洁美观。
3.共3个槽体  水浴加热槽2个，排水槽1个  
4. 设备的左、右前方各配置PP材料的水枪、气枪各2把
5.PLC控制器
6.声光提示、报警功能
7. 设备照明：20W封闭日光灯
8. DIW氮气(N2) 管路 、洁净空气管路、自来水管 、 药液排放管、排气管路、 排水管布局简洁合理。  
9.还可根据客户要求设计制作光刻清洗台

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